Sputtering targets are the source materials for the preparation of sputtered thin films. In particular, high-purity sputtering targets are used in the physical vapor deposition (PVD) process for the ...

*****「クロム銅スパッタリングターゲットの世界市場」市場規模予測・企業動向レポートを発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のクロム銅スパッタリングターゲット市場」調査レポートを発行・販売します。クロム銅 ...

High power magnetron sputtering techniques have become essential tools in the deposition of advanced thin films. By utilising high power pulses, these methods generate highly ionised plasmas that ...

独自に開発した高圧プラズマスパッタリングを用いて、ナノ構造が均一に分散したゲルマニウム(Ge)負極膜を、単一ステップ工程で作製することに成功。 ナノ構造ゲルマニウムスズ(GeSn)負極膜を用いたLiイオン電池で1,000 mAh/g以上の高容量を実証。