～世界最高水準の厚膜CVD-SiC技術で光学産業に革新を～ TESは、国の開発支援プログラム「サポイン事業」などを活用し、CVD法によるSiC製造技術の開発を進めてきました。従来のCVD法による皮膜層は数十μm程度の厚みが限界とされてきましたが、当社は独自 ...

今週は、PVD,CVD,陽極酸化についてです。PVDは物理的、CVDは化学的、陽極酸化は電気化学的な膜形成手法となります。こちらも技術士「金属部門」〈0702 表面技術〉の中心テーマです。それぞれについて、原理、特徴、メリット、デメリットをまとめてみました。

FPD(フラットパネルディスプレイ)生産では、ガラス基板に350℃以下の低温でシリコン酸化膜を形成する必要がある。現在、第6世代以上の大型FPD、モバイル用小型高性能FPDの生産ではプラズマCVD(化学気相成長)方式やスパッタリング方式を使用しているが ...