Sacrificial hardmask ALD with hydrogen peroxide: comparative study of low temperature growth and film characteristics for TiO<sub>2</sub> and Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>
Sacrificial hardmask ALD with hydrogen peroxide: comparative s…
2020年3月23日
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#promo 🔬💡 你能想像，我們可以精準控制材料沉積，讓它薄到只有幾個原子厚嗎？在半導體領域，這不僅是可能，而是現實！ 製作更強大的晶片，關鍵在於把更多電晶體塞進相同大小的區域。為了做到這點，產業內的巨頭們推動了環繞式閘極、3D封裝等技術突破。然而，要達成這些複雜設計，首先必須沉積出僅幾層原子厚度的薄膜。而這一切的核心技術，正是原子層沉積技術（ALD，Atomic Layer Deposition）。 而ALD這個領域的霸主，就是擁有超過50年歷史的荷蘭半導體設備商 ASM ！ASM不僅深耕ALD研發20餘年，現在更是在市場有超過55%的市佔率！ 想更了解ALD請至泛科文章：https://pansci.asia/archives/377601 | PanSci 科學新聞網
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An ALD equipment manufacturer reveals three surprising benefits of "catalysis x ALD"
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Desktop type ALD device SAL 1000 B (for powder) Promotion Video
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「原子層堆積（ALD)技術による薄膜形成」
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成膜・CVDを徹底解説！！【半導体プロセス解説シリーズ】
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2020年3月31日
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2020年7月15日
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